tmal lo.
TMAL LO是铝前体,用于沉积化合物半导体,特别是合成以满足超低氧要求。
TMAL LO是一个独特的等级,以满足要求苛刻的应用,氧气规范低于1ppm氧气。
有关的更多信息tmal lo.,请联系我们的技术专家。我们期待您的回音。
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